真空喷涂原理是什么?
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真空等离子喷涂工作原理图低真空环境下的喷涂与大气等离子喷涂相比具有以下显著特点: 1)等离子射流的速度和温度都比大气等离子喷涂明显提高,压力愈低,射流速度和温度就愈高。 2)粉末在等离子射流高温区域滞留的时间增加,受热更均匀,飞行速度更高。 3)可大幅度提高基体表面预热温度;还可以用反向转移弧对基体进行溅射清洗,清除氧化物和污垢,使涂层和基体的结合状况得到改善。 4)粉末和基体表面完全避免了氧化,能制备各种活性金属材料涂层。 5)由于以上原因,使得涂层结合强度大幅度提高,气孔率大幅度降低,涂层残余应力减小,涂层质量明显改善。 6)真空等离子喷涂设备复杂,价格昂贵,推广应用难度很大。
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